เมื่อวันที่ 17 ส.ค.ที่ผ่านมา นักวิจัยจากไอบีเอ็ม คุณ Paul W.K. Rothemund ได้เปิดเผยวิธีการจัดเรียงโครงสร้างดีเอ็นเอบนพื้นผิว ซึ่งเข้ากันได้กับการผลิตสารกึ่งตัวนำ (semiconductor) ในปัจจุบัน

โดยคุณ Spike Narayan ผู้จัดการแผนกวิทยาศาสตร์และเทคโนโลยีของไอบีเอ็มรีเสิร์ชได้กล่าวว่า "ค่าใช้จ่ายที่เกิดขึ้นจากการลดขนาดชิปเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพเป็นปัจจัยจำกัด (limiting factor) ที่จะรักษากฏของมัวร์ไว้"

ตามกฎของมัวร์ ปริมาณของทรานซิสเตอร์บนวงจรรวมจะเพิ่มเป็นเท่าตัวทุกสองปี แต่กฏดังกล่าวอาจไม่ยั่งยืนตลอดไปสำหรับชิปที่ขนาดเล็กกว่า 22 นาโนมเตร โดยในปีพ.ศ.2557 ค่าใช้จ่ายในการผลิตชิปที่สูงมากจะคุกคามกฏของมัวร์